一、行業簡介
        半導體、集成（chéng）電（diàn）路芯片（piàn）及封裝、液（yè）晶顯示、高（gāo）精度線路板、光電器件、各種電子器（qì）件、微電子工業、大規模、超大規模集（jí）成電路需用大（dà）量的純水、高純水、超（chāo）純（chún）水清洗半成（chéng）品、成品。集成電路的集成（chéng）度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目（mù）前我國（guó）電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水（shuǐ）質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品（pǐn）、造紙、日化、建材（cái）、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石（shí）油（yóu）、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥（yào）劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯片、半導體封裝（zhuāng） 、引線櫃架、集成電（diàn）路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及（jí）各種（zhǒng）元器件等生產工藝用純水。
三（sān）、工藝簡介
1、係統模塊化設計（jì），共分四部分：預處理係統（tǒng）、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以（yǐ）及部分有機（jī）物，保證產水符合（hé）反滲透係統的進水水質要（yào）求。
3、反滲透係統主要用來去除（chú）原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保證（zhèng）產水符合EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統主（zhǔ）要用來對反滲透產水進（jìn）行（háng）進一步脫（tuō）除溶解（jiě）性的小分子（zǐ）鹽類物（wù）質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以（yǐ）上。
5、終端供水係統主要是用（yòng）來將合格水輸送至用水點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個（gè）係統（tǒng）進行集中控製。

四（sì）、技術特色
1、係統模塊化設計，占（zhàn）地麵（miàn）積小，操作維護方便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係（xì）統實（shí）現（xiàn）全自動化運行，並且手（shǒu）動（dòng）與自動自由切換。
3、設備產（chǎn）水水質穩定，運（yùn）行連（lián）續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性（xìng）廢液排放（fàng）。
5、係統節水率高，係統回收率在75%以上（shàng）。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水（shuǐ）符（fú）合《電（diàn）子超純水國家標準（zhǔn）》 （GB/T1144.6.1-1997）或（huò）美（měi）國半導體工業純（chún）水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水（shuǐ）溫25℃）。