汙染物質和（hé）清洗藥品 汙（wū）染物 常規化學清洗 增強化學清洗 碳酸鈣結垢（gòu） 2.0wt%檸檬酸，pH4.0 （用氨水體（tǐ）調節（jiē）pH值） HCl，pH2.5 硫（liú）酸鈣、硫酸鋇、 硫酸鍶結垢 2.0wt%STPP和（hé）0.8 wt%Na-EDTA（pH10） HCl，pH2.5 金（jīn）屬氧化物、 金屬氫氧化物 2.0wt%檸檬酸，pH4.0 （用氨水體調節pH值） 1.0wt%的亞硫酸氫鈉（nà），pH11.5 （Fe、Mn采用0.2wt%的草（cǎo）酸，pH2） 無機膠體汙染 2.0wt%檸檬酸，pH4.0 （用氨（ān）水體調節pH值） HCl，pH2.5 無機有（yǒu）機 混合膠體汙（wū）染 2.0wt%STPP和（hé）0.8 wt%Na-EDTA（pH10） 0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS，pH11.5 矽 無 0.1wt%NaOH，pH11.5 生物汙染（rǎn） 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA（pH10） 2.0wt%STPP和0.25wt%Na-DDBS,pH10 或0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS，pH11.5 溶解有機汙染物 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA（pH10） 2.0wt%STPP和（hé）0.25wt%Na-DDBS,pH10 或0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS，pH11.5 注：HCl——鹽酸； STPP——三聚（jù）磷酸鈉； Na-EDTA——乙二胺（àn）四乙酸（suān）鈉； NaOH——氫氧化鈉； SDS——十二烷基磺（huáng）酸鈉； Na-DDBS——十二烷（wán）基笨磺酸鈉。