一（yī）、行業簡介
        半導體、集成電路芯片及封裝、液晶（jīng）顯示、高精度線路板（bǎn）、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大（dà）規模集成電路需用大量的（de）純水、高純水、超純（chún）水清洗半成品（pǐn）、成品（pǐn）。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別（bié）為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分（fèn）不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄（xù）電池、化（huà）驗、生物、製藥、石（shí）油、化工、鋼鐵、玻（bō）璃等領域。
2、化工工（gōng）藝用水、化學藥劑、化妝品等用純（chún）水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半（bàn）導體芯（xīn）片（piàn）、半導體封（fēng）裝 、引線櫃架（jià）、集成電路、液晶顯示器、導（dǎo）電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦（nǎo）元件、電容器潔淨產品及各種元（yuán）器件等生產工藝（yì）用純水。
三（sān）、工（gōng）藝（yì）簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係（xì）統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預（yù）處理（lǐ）係統主要用來去（qù）除原水中的懸浮物（wù）、濁度、色度（dù）、膠體（tǐ）以及部分有機物，保證產水符合反滲透係統（tǒng）的進水水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源（yuán）等，保證產水符合EDI係統進水水（shuǐ）質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲（shèn）透產水進行進一步脫除溶解性的（de）小（xiǎo）分子鹽類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將合格水（shuǐ）輸（shū）送至用水點，輸送過程中對EDI產（chǎn）生進行最（zuì）後的離子交換脫鹽，使（shǐ）得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行（háng）集中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化設計，占地麵積小，操作維護方（fāng）便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係統實（shí）現全（quán）自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備產水水質穩（wěn）定，運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害（hài）性廢液排放。
5、係統節水率高，係統（tǒng）回收率在75%以（yǐ）上。
6、關鍵部位（wèi）采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備（bèi）產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半（bàn）導體工業純水指標。
3、單（dān）支膜脫鹽率≥99.5%（水（shuǐ）溫25℃）。